23. 4. 2019  4:36 Vojtech
Akademický informačný systém

Prehľad vypísaných tém - Materiálovotechnologická fakulta so sídlom v Trnave


Základné údaje

Typ práce: Dizertačná práca
Názov témy: Príprava tenkých vrstiev a povlakov pomocou hypertermálnych iónov
Názov témy anglicky: Preparation of thin films and coatings by hyperthermal ions
Stav témy: schválené (prof. Ing. Ľubomír Čaplovič, PhD. - Predseda odborovej komisie)
Vedúci práce: Ing. Marcel Meško, Ph.D.
Fakulta: Materiálovotechnologická fakulta so sídlom v Trnave
Garantujúce pracovisko: Ústav materiálov - MTF
Max. počet študentov: 1
Akademický rok:2019/2020
Navrhol: Ing. Marcel Meško, Ph.D.
Anotácia: Príprava tenkých vrstiev a povlakov s fyzikálnymi vlastnosťami, ktoré sa blížia objemovým vlastnostiam daného materiálu, je dôležitá nielen v rámci vedeckých štúdií, ale aj pre technickú prax. Magnetrónové naprašovanie sa orientuje na technológie s výrazne vyššími energiami a stupňom ionizácie odprašovaného materiálu, ktorý vedie k vytváraniu vrstiev a povlakov s vyššou hustotou, bez pórov a hladkým povrchom. Medzi najznámejšie ionizované PVD (iPVD) technológie patrí High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS). Vysoká ionizácia plazmy je v prípade HiPIMS dosahovaná krátkymi nízkofrekvenčnými pulzami s extrémne vysokou hustotou výkonu. Obsahom práce je príprava kovových vrstiev tvorených prechodovými prvkami pomocou HiPIMS v prostredí vysokého vákua. Príprava týchto vrstiev je technologicky náročná, z dôvodu ich silnej afinity ku kyslíku a reaktívnej povahe k ďalším ľahkým prvkom, ktoré sú prítomné vo forme rezíduí vo vákuu. Časť práce bude realizovaná na HiPIMS zariadeniach zhotovených samotným PhD uchádzačom. Analýza štruktúry pripravených vrstiev bude vykonaná pomocou röntgenovej difrakcie (XRD) a transmisnej elektrónovej mikroskopie (TEM). Prvkové zloženie bude merané pomocou metódy elastic recoil detection analysis (ERDA).
Anotácia anglicky: The preparation of thin films and coatings with physical properties that are close to the material bulk properties is important not only in scientific studies but also in technical practice. Magnetron sputtering focuses on technologies with significantly higher energies and the degree of ionization of the sputtered material, which leads to the formation of layers with smooth surface, higher density without voids. The most promising ionized PVD (iPVD) technology is High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS). High plasma ionization is achieved in this case by short, low-frequency pulses with extremely high power densities. The content of this work is the preparation of metallic thin films made of transition elements using HiPIMS in a high vacuum environment. The preparation of these layers is technologically demanding due to their strong affinity to oxygen and reactive nature to other light elements present in the form of residuals in the vacuum. Part of the work will be realized on HiPIMS devices made by PhD applicant her/himself. Analysis of the structure of the prepared layers will be performed by X-ray diffraction (XRD) and transmission electron microscopy (TEM). The elemental composition will be measured using the elastic recoil detection analysis (ERDA) method.



Obmedzenie k téme

Na prihlásenie riešiteľa na tému je potrebné splnenie jedného z nasledujúcich obmedzení

Obmedzenie na študijný program
Tabuľka zobrazuje obmedzenie na študijný program, odbor, špecializáciu, ktorý musí mať študent zapísaný, aby sa mohol na danú tému prihlásiť.

ProgramZameranieŠpecializácia
D-PMMD progresívne materiály a materiálový dizajn-- nezadané -- -- nezadané --