22. 10. 2019  11:46 Sergej
Akademický informačný systém

Projekty


Vlastnosti špeciálnych skiel modifikovaných pomocou iónovej implantácie

Garant: doc. Ing. Stanislav Minárik, PhD.


Základné informácie   Pracovníci      


Na tejto stránke máte zobrazené podrobné informácie o projekte. Pri hlavných projektoch sa zobrazuje navyše zoznam podprojektov.

Popis projektu:Návrh projektu sa zaoberá modifikáciou povrchu chalkogenidových skiel dopovaním Na a K katiónov s cieľom upraviť ich index lomu. Pripravia sa vzorky skla, upravia implantáciou iónov a potom budú testované na ich optimálnu funkčnosť. Povrch pripravených skiel bude analyzovaný pomocou RBS / ERDA a PIXE spektroskopie. Centrum iónového lúča v oblasti MTF STU Campus je vybavené tandemovým urýchľovačom HVEE 6MV s dvoma koncovými stanicami - implantáciou a analýzou s RBS, PIXE a ERDA, implantátom HVEE 500kV a zariadeniami pre plazmovú technológiu vrátane dvoch najmodernejších technológií, DCMS (Direct Current Magnetron Sputtering), RFMS (rádiofrekvenčný magnetronový rozprašovač) a dva systémy PIII (Plasma Immersion Ion Implantation).
Druh projektu:APVV - Bilaterálna spolupráca ()
Pracovisko:Ústav aplikovanej informatiky, automatizácie a mechatroniky (MTF)
Identifikácia projektu:SK-FR-2017-0006
Stav projektu:Neschválený
Dátum začatia projektu:01. 01. 2018
Dátum ukončenia projektu:31. 12. 2019
Počet pracovníkov projektu:7
Počet oficiálnych pracovníkov projektu:7

Oficiálni pracovníci projektu

Nasledujúca tabuľka zobrazuje pracovníkov, ktorým boli pridelené oficiálne role na projekte.

PracovníkOficiálne úlohy
doc. Ing. Stanislav Minárik, PhD.zodpovedný riešiteľ
Mária Rešetková, MBAadministratíva
Mgr. Ondrej Bošák, PhD.spoluriešiteľ
prof. Ing. Mária Dománková, PhD.spoluriešiteľ
prof. Ing. Marian Kubliha, PhD.spoluriešiteľ
doc. RNDr. Vladimír Labaš, PhD.spoluriešiteľ
Ing. Martin Šumecspoluriešiteľ