22. 11. 2019  20:59 Cecília
Akademický informační systém

Projekty


Výskum novej generácie implantačného a depozičného procesu za účelom získania atomárne čistých povrchov pre zvýšenie adhézia a prípravuTiAIN vrstiev s redukovaným vnútorným napätím

Garant: Ing. Marcel Meško, Ph.D.


Základní informace   Pracovníci      


Na této stránce máte zobrazeny podrobné informace o projektu. U hlavních projektů se zobrazuje navíc seznam podprojektů.

Popis projektu:Tento projekt je zameraný na prípravu TiAlN vrstiev pomocou novej generácie implantačného a depozičného procesu založeného na kombinácii plazmou podporovanej iónovej implantácie a vysokovýkonného impulzného magnetrónového naprašovania. V navrhovanom projekte sa zameriame hlavne na prípravu atomárne čistých povrchov pomocou plazmového leptania kovovými iónmi, za účelom zvýšenia adhézie a zníženia napätia vo vrstvách, ich implantáciou. Takto pripravené vzorky sa budú porovnávať s TiAlN vrstvami, pripravenými metódou dcMS a LARC. Predpríprava kovového povrchu pred procesom povlakovania pomocou plazmového čistenia v elektrolyte za účelom zvýšenia adhézie systému, bude taktiež skúmaná.
Druh projektu:VEGA ()
Pracoviště:Ústav výskumu progresívnych technológií (MTF)
Identifikace projektu:1/0158/19
Stav projektu:Neschválený
Datum zahájení projektu:01. 01. 2019
Datum ukončení projektu:31. 12. 2021
Počet pracovníků projektu:11
Počet oficiálních pracovníků projektu:11

Oficiální pracovníci projektu

Následující tabulka zobrazuje pracovníky, kterým byly přiděleny oficiální role na projektu.

PracovníkOficiální role
Bc. Alena Michálikováadministrátor
Ing. Roland Šuba, PhD.spoluriešiteľ
Ing. Martin Bajčičák, PhD.spoluriešiteľ
Ing. Marcel Meško, Ph.D.zodpovedný riešiteľ
prof. Ing. Ján Lokaj, PhD.spoluriešiteľ
doc. Ing. Štefan Podhorský, CSc.spoluriešiteľ
Ing. Roman Sýkoraspoluriešiteľ
Ing. Jana Bohovičová, PhD.spoluriešiteľ
Mgr. Jozef Krajčovič, PhD.spoluriešiteľ
RNDr. Karol Kvetan, CSc.spoluriešiteľ
Mgr. Jana Lokajováspoluriešiteľ