21. 10. 2019  9:10 Uršuľa
Akademický informačný systém

Projekty


Výskum novej generácie implantačného a depozičného procesu za účelom získania atomárne čistých povrchov pre zvýšenie adhézia a prípravuTiAIN vrstiev s redukovaným vnútorným napätím

Garant: Ing. Marcel Meško, Ph.D.


Základné informácie   Pracovníci      


Na tejto stránke máte zobrazené podrobné informácie o projekte. Pri hlavných projektoch sa zobrazuje navyše zoznam podprojektov.

Popis projektu:Tento projekt je zameraný na prípravu TiAlN vrstiev pomocou novej generácie implantačného a depozičného procesu založeného na kombinácii plazmou podporovanej iónovej implantácie a vysokovýkonného impulzného magnetrónového naprašovania. V navrhovanom projekte sa zameriame hlavne na prípravu atomárne čistých povrchov pomocou plazmového leptania kovovými iónmi, za účelom zvýšenia adhézie a zníženia napätia vo vrstvách, ich implantáciou. Takto pripravené vzorky sa budú porovnávať s TiAlN vrstvami, pripravenými metódou dcMS a LARC. Predpríprava kovového povrchu pred procesom povlakovania pomocou plazmového čistenia v elektrolyte za účelom zvýšenia adhézie systému, bude taktiež skúmaná.
Druh projektu:VEGA ()
Pracovisko:Ústav výskumu progresívnych technológií (MTF)
Identifikácia projektu:1/0158/19
Stav projektu:Neschválený
Dátum začatia projektu:01. 01. 2019
Dátum ukončenia projektu:31. 12. 2021
Počet pracovníkov projektu:11
Počet oficiálnych pracovníkov projektu:11

Oficiálni pracovníci projektu

Nasledujúca tabuľka zobrazuje pracovníkov, ktorým boli pridelené oficiálne role na projekte.

PracovníkOficiálne úlohy
Bc. Alena Michálikováadministrátor
Ing. Roland Šuba, PhD.spoluriešiteľ
Ing. Martin Bajčičák, PhD.spoluriešiteľ
Ing. Marcel Meško, Ph.D.zodpovedný riešiteľ
prof. Ing. Ján Lokaj, PhD.spoluriešiteľ
doc. Ing. Štefan Podhorský, CSc.spoluriešiteľ
Ing. Roman Sýkoraspoluriešiteľ
Ing. Jana Bohovičová, PhD.spoluriešiteľ
Mgr. Jozef Krajčovič, PhD.spoluriešiteľ
RNDr. Karol Kvetan, CSc.spoluriešiteľ
Mgr. Jana Lokajováspoluriešiteľ