14. 10. 2019  17:30 Boris
Akademický informačný systém

Projekty


Výskum novej generácie implantačného a depozičného procesu za účelom získania atomárne čistých povrchov pre zvýšenie adhézie a prípravu TiAlN vrstiev s redukovaným vnútorným napätím.

Garant: Ing. Marcel Meško, Ph.D.


Základné informácie   Pracovníci      


Na tejto stránke máte zobrazené podrobné informácie o projekte. Pri hlavných projektoch sa zobrazuje navyše zoznam podprojektov.

Popis projektu:Tento projekt je zameraný na prípravu TiAlN vrstiev pomocou novej generácie implantačného a depozičného procesu založeného na kombinácii plazmou podporovanej iónovej implantácie a vysokovýkonného impulzného magnetrónového naprašovania. V navrhovanom projekte sa zameriame hlavne na prípravu atomárne čistých povrchov pomocou plazmového leptania kovovými iónmi, za účelom zvýšenia adhézie a zníženia napätia vo vrstvách, ich implantáciou. Takto pripravené vzorky sa budú porovnávať s TiAlN vrstvami, pripravenými metódou dcMS a LARC. Predpríprava kovového povrchu pred procesom povlakovania pomocou plazmového čistenia v elektrolyte za účelom zvýšenia adhézie systému, bude taktiež skúmaná. Pripravené vrstvy po optimalizácii technologických parametrov budú aplikované na rezné nástroje vyrobené zo spekaného karbidu volfrámu a na lisovacie formy, pričom očakávame, že sa zvýši trvanlivosť nástrojov v dôsledku lepšej adhézie na rozhraní vrstva-nástroj, zvýši sa oteruvzdornosť vrstiev znížením vnútorných napätí v ich objeme
Druh projektu:VEGA ()
Pracovisko:Ústav výskumu progresívnych technológií (MTF)
Identifikácia projektu:1/0207/20
Stav projektu:Podaný
Dátum začatia projektu:01. 01. 2020
Dátum ukončenia projektu:31. 12. 2022
Počet pracovníkov projektu:10
Počet oficiálnych pracovníkov projektu:0